领航 作品

第223章 复制5nm生产设备

 现如今,次元空间的体积,增大了十倍,达到了一百万立方米,表现出来,就是面积增加了五倍,高度增加了两倍。原来的芯片生产线和各种物品,只占据了空间正中不大一片位置,四周是一片空旷。而复制出来的duv光刻机,就出现在了新出现的空地上。

 乔瑞达操控意识体,在全新的次元空间内逛了一圈,心里规划着新出现的这些空地,要如何利用。要不弄一套十年后的芯片生产线出来,就在别人还在为28nm芯片的量产而庆贺欢呼的时候,自己这里已经悄悄的完成了5nm芯片的流片测试,这种场景,想想就刺激。

 十分钟之后,乔瑞达的意识体终于来到了这台崭新的euv光刻机的面前,伸出右手,触摸着光刻机冰冷的金属外壳,和半透明的玻璃观察窗,他激动的心情,久久难以平息。

 按照乔瑞达前世了解到的信息,早在2006年的时候,阿斯麦就推出了第一代euv(极紫外光刻机)演示机。在2010年时,AsmL推出了第二代euv光刻机nxe:3100。2013年,AsmL推出了量产型号nex:3300B,而2015年又推出了nxe 3350B,但这早期的产品,主要是各大晶圆、研究中心用来测试等,并没有用于芯片的量产。直到2017年,AsmL有了真正的大进步,推出了twinsxe:3400B,这一代euv光刻机,能够支持7纳米和5纳米节点的euv量产,于是引爆了AsmL市场。

 受到某些共所周知的限制,以上这些euv光刻设备中的任何一个型号,任何一台,都没有出现在华夏大陆,甚至某些高端的duv光刻机的进口都会受到限制。这也就造成了国内的芯片生产能力,一直严重落后于世界主流水平,高端芯片,一直依赖于进口,经常受制于人。

 但是现在,在12年的当下,一台国内芯片人极度渴望,价值上亿美刀的euv光刻机,就那么随意的摆在乔瑞达的面前,这让他如何不激动,如何不兴奋。乔瑞达的意识体,围着这台euv光刻机转了一圈又一圈,设备上每一个显示面板,每一个按钮都被他看了一个遍。

 半个小时后,乔瑞达激动的心情终于平复下来。毕竟只是一台euv光刻机,不接电,没有与之配套的其它芯片生产设备,什么也做不了。

 “这么好的一台光刻机,不用来生产芯片可惜了,要不利用浏览器,搞一套十年后的5nm芯片生产线出来。”

 想到就做,乔瑞达立马退出次元空间,回到系统界面,然后打开浏览器,在十年后的网络上搜索“5nm芯片生产线”相关的信息。在国内网络上,只有一些只言片语的介绍,相关的图片和视频也很少,根本凑不齐一套完整的设备,毕竟直到22年国内也没有如此先进的芯片生产线。

 乔瑞达又尝试着输入一个外网的网址,好在金手指里没有墙,外网可以随意访问。用谷歌搜索同样的关键字,这次的搜索结果终于多了起来,随意点开一个页面,都是图文并茂的介绍。更让乔瑞达高兴的是,他在油土鳖视频网上,找到了一个参观台积电5nm芯片生产车间的视频,包括euv光刻机,刻蚀机,离子注入机,清洗机等全套的芯片生产设备,都能在视频里找到,每一个生产环节都有介绍。乔瑞达就在这个视频中,不断播放暂停,不断的截图,不断的复制,终于在两个小时后,将生产线上所有的设备都复制了出来。