光刻胶的成膜性能，主要应用于刚性或柔性物体表面的微纹，对基材具有良好的润湿性、优良的成膜性能、厚度均匀及无气孔缺陷，容易成膜。
压印性能的标准则是因为在压印过程中应用的光刻胶与传统的曝光法有很大不同，如果硬度太大，会引起压印力的增加，很可能会导致模板的损坏。
硬度及粘度、固化速率、界面特性以及抗刻蚀能力也都是重中之重。
毕竟光刻胶的主要用途是作为防蚀剂来转移微图像，这一过程需要有选择地刻蚀，也就是在没有光刻胶保护的零件上进行刻蚀，有光刻胶的部分因其耐刻蚀能力而受到保护，从而达到图形传递的目的。
每一个项目的参数都至关重要，每一个小项目的负责人以及实验人员无一不是翘首以盼，希望自己负责的项目可以通过。
但在没有将所有项目公布完之前，没有一位实验员大声庆祝，因为在这些时日的攻克难题当中，他们早就已经成为了战友。
这是一场没有硝烟，只有材料与光学的战争。
随着项目测试的成绩一项一项被周瑜报出来，等到最后周瑜说出设备的结论成果时：“适用于45纳米制程工艺……”
哗啦啦的掌声和略显压抑的呐喊声顿时响起。
但是仅仅就这么几秒钟，实验室内众人都赶忙停下了幅度过大的动作。
虽然是在实验室的公共区域，这里没有什么精密仪器，但是众人还是下意识想保护仪器设备的稳定状态。
毕竟在半导体领域，一个大分贝噪音都有可能影响到实验结果。
但是激烈的庆祝不行，走动之间，握手、相拥庆祝却是没有禁止。
呼……
杨刚省深深的呼吸了几次，在整个实验项目当中，他的压力是最大的。
毕竟当初他从台积电离开之后，虽然已经安稳度过竞业协议规定的时间，但是却还要保证在整个试验的过程中，不能将台积电独有的专利技术拿出来，所以每次都要小心翼翼的进行探索，每天晚上睡觉前，他本人甚至还要在脑海里复盘白天的工作，检讨每一处细节。
周瑜在一旁，拍了拍杨刚省的肩膀。
“辛苦了，有了这个开端，我们大夏联邦也能够有真正自主的半导体材料产业了，假以时日，我们也能做到全球顶尖。”
处理污染的半导体材料只是小打小闹，光刻胶项目成功的意义，在于西蜀新科公司终于在象征工业皇冠的半导体产业，搭建了最重要的基石！
芯片设计，只需要投入足够多的设计工程师，虽然不能轻易做到顶端，但是只要不计代价，混个到中游水平还是非常简单的。
而光刻胶这类半导体材料，哪怕项目投入大，但绕过专利限制、发现新专利技术，却是不能依靠人力资源堆积就能够完成的。
而且周瑜有预感，在自己给出的那些技术材料参数文件帮助后，其他几个项目应该也会有很快的突破。